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制作過(guò)程：
二氧化硅修飾石墨烯量子點(diǎn)的制作過(guò)程通常涉及將石墨烯量子點(diǎn)分散在溶劑中，然后加入二氧化硅前驅(qū)體（如硅烷偶聯(lián)劑），通過(guò)化學(xué)反應(yīng)在GQDs表面形成一層二氧化硅殼層。這種修飾方法可以提高GQDs的穩(wěn)定性、分散性和生物相容性。
實(shí)際應(yīng)用：
二氧化硅修飾的石墨烯量子點(diǎn)在生物醫(yī)學(xué)、光電器件和傳感器等領(lǐng)域具有潛在應(yīng)用。二氧化硅殼層可以保護(hù)GQDs免受環(huán)境因素的干擾，同時(shí)提供額外的功能化位點(diǎn)，用于連接生物分子或藥物分子。此外，二氧化硅的優(yōu)異光學(xué)性能還可以使GQDs在光電器件中發(fā)揮更好的性能。我們提供該產(chǎn)品的基礎(chǔ)及定制，歡迎咨詢(xún)WYQ
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| 3 | 可降解6 個(gè)單元 PEG 的 ADC linker之Azido-PEG6-NHS ester瑞禧生物 | 704 | 瑞禧生物 | 2023-01-03 |
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| 5 | 瑞禧ROS響應(yīng)性定制： DSPE-TK-PEO ；DBCO-SS-COOH/MAL科研 | 878 | 瑞禧生物 | 2022-12-08 |
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